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产品名称:

半导体超纯水设备

产品品牌: 价格:
厂商性质: 生产厂家 产品时间: 2024-08-23
半导体超纯水设备主要用于生产超纯水过程中去除TOC有机物,降低TOC出水指标,使出水满足美国ASTM超纯水水质标准及电子工业部电子级水水质标准。

产品概述

 半导体超纯水设备在半导体生产中主要用于清洗硅片。少量水用于配制药剂、硅片氧化的蒸汽源、某些设备的冷却水、电镀溶液的配制。产品的质量与产量密切相关。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良,重金属(Au、Ag、Cu等)会降低PN结的耐压力,III族元素 (B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化,V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化。细菌高温炭化水中的磷(约为灰分的20%~50%)会使p型硅片局部变为N型硅片,导致器件性能下降。水中的颗粒,包括细菌,如果附着在硅片表面,会导致短路或性能恶化。可见,超纯水在半导体行业的必要性。

 

  随着半导体工业的不断发展,对清洁水的电导率、离子含量、TOC、do和颗粒物的要求越来越严格。由于超纯水在许多指标上对半导体的要求很高,因此半导体行业的超纯水与其他行业的用水要求不同。半导体行业对超纯水有严格的水质要求。目前,半导体所用的超纯水需要达到的水质标准为:我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准),我国电子工业部高纯水水质试行标准,国内外大规模集成电路水质标准等。

产品介绍:

Onyx的EX-UPW-TOC产品主要由高透185nm的紫外灯管,高输出石英套管,内外电解抛光的一体化紫外反应器,高度精确的UV强度传感器及智能自控系统组成。

185nmUV主要用于生产超纯水过程中去除TOC有机物,降低TOC出水指标,使出水满足美国ASTM超纯水水质标准及电子工业部电子级水水质标准。

 

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电子级水UV-TOC控制系统

 半导体超纯水设备产品规格:

处理水量

2~60m3/h

灯管配置

12~48支

灯管类型

85w/155w(185/254nm双波段)

石英套管

T>80%@185nm

镇流器

50~100%输出功率可调

反应器材质

316L

洁净等级

内外电解抛光、表面光洁度10以上(≤Ra0.2)

法兰尺寸

DN50~DN200

额定压力

PN10

控制柜等级

IP55,碳钢喷塑

控制系统

本地/远程、触摸屏、连接SCADA系统

UV强度传感器

分辨率0.01mw/cm2

 

 

 


 

 

 

 

集成电路超纯水应用领域:

1. 半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路板

2. 电解电容器生产铝箔及工作件的清洗

3. 电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液

4. 黑白显像管荧光屏的生产、波壳清洗、沉淀、洗膜、管颈清洗

5. 液晶显示器的生产、屏面清洗

6. 集成电路生产中高纯水清洗硅片

7. LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏的生产

 

 

 

 

 

 

 

 

 

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