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半导体领域未来的水处理方向

发布日期: 2024-01-12
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  在半导体领域,超纯水是制造过程中重要的原材料,其电导率、微粒含量、TOC、DO等各项水质指标都必须严格控制。超纯水的生产过程中,微粒子、电导率和TOC等任何一个指标稍有差异,都可能导致半导体元件生产的合格率下降。因此,对超纯水处理技术的持续改进和提升,是半导体制造领域的重要研究方向。
 
  随着半导体集成度的提高和线宽的缩小,对水质的要求也更为严格,未来超纯TOC降解技术的发展方向将主要集中在以下几个方面。
 
  1.更高效降解技术:随着半导体技术的不断进步,对超纯水中有机物的限制更加严格。在许多高科技和实验室设备中,总有机碳(TOC)会阻碍高纯水的生产。因此,需要开发更高效、快速的降解技术,以满足不断增长的需求;
 
  2.绿色环保技术:采用环境友好型技术和材料,减少对环境的负担和影响;
 
  3.智能控制技术:利用先进的传感器、控制器和人工智能技术,实现超纯水TOC降解过程的智能控制和优化管理;
 
  4.多技术联合应用:将不同技术的优点结合在一起,形成多技术联合应用方案,以提高降解效率和可靠性。
安力斯-微电子超纯水TOC降解系统
 
  其中,对超纯水TOC(总有机碳)的降解是关键环节之一。安力斯EX-UPW-TOC系列产品是一款适用于超纯水 (UPW) 制备中对总有机碳 (TOC) 进行降解的可靠系统。通过更高185nm输出强度、实时在线的紫外线强度监测、本地/远程的智能控制系统,实现严格、高效的总有机碳 (TOC) 降解。该设备在超纯水制备工艺中,可使超纯水TOC降至1ppb以下。
 
  可以期待,高效、智能且环保的TOC降解系统技术将成为未来半导体领域的水处理重要的发展方向,不断探索新的技术和方法,以满足不断增长的需求和提高水质指标,未来将极大地推动半导体制造技术的发展。
 
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