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深入了解紫外线光解技术在半导体水处理中的应用

发布日期: 2024-01-12
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  紫外线光解技术被广泛应用于各种领域,其中就包括超纯水的制备。在超纯水的生产过程中,微粒子、电阻率和TOC等任何一个指标稍有差异,都可能导致半导体元件生产的合格率下降。对于超纯水处理,紫外线光解技术具有以下优点。
 
  1.杀菌作用:紫外线具有很强的杀菌能力,能够有效杀灭超纯水中的细菌和病毒,降低微生物的数量,保证水质的纯净度;
 
  2.臭氧消除:在半导体生产中,臭氧经常被用来消毒和净化水。然而,水中残留的臭氧可能会影响半导体制备下一道工序。紫外线光解技术可以有效地分解水中的臭氧,避免其对设备造成影响;
 
  3.降低总有机碳(TOC): 紫外线光解技术能够将有机物质分解成小分子,最终产物为二氧化碳和水,从而降低水的TOC含量;
 
  4.余氯降解:在半导体生产过程中,为了避免对产品产生不利影响,去除水中的残余氯是必要的预处理,紫外线光解技术能有效地去除水中的残余氯;
 
  5.安装简便:紫外线光解设备结构简单,安装方便,不需要特别的管道和设备在超纯水制备过程中。
 
  需要注意的是,当前半导体行业超纯水制备工艺存在设计、施工安装及运维方面等痛点,安力斯立足技术创新,针对行业技术难点攻克。用持续的研发投入与产品迭代,使安力斯拥有了超纯水TOC光解技术。通过提升超纯水水质指标,优化水循环再生解决方案,帮助提升产品良品率和水资源利用效率,以“双维度”助力半导体企业降本增效。
安力斯-超纯水TOC降解产品
 
  总的来说,紫外线光解技术在半导体超纯水处理中起到了非常重要的作用。它提高了产水水质、降低了微生物数量、降解了有机物和余氯,为半导体领域的生产提供了重要的技术及设备支持。
 
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