TOC超纯水 电子级水 超纯水设备

电子级水概念明晰：

在电子行业、半导体行业中，用水标准是极为严格的。在这些行业中，无论是材料、电子元件、电路板，还是设备等的清洗工作，对水质的要求都需要达到高纯水的级别。电子级水通常指需电子行业用水，其水中要去除细菌、泥沙、胶体、悬浮物、金属这些导电杂质。

其电阻率≥18MΩ/cm（25℃，EW-I）。

     《中华人民共和国国家标准:电子级水(GB/T 11446.1-2013)》将原电子级水级别由5级改为4级，技术内容增加了金属镍、硝酸根、磷酸根、硫酸根等指标；增加了有关水的词汇，本标准由中华人民共和国电子工业部提出。本标准由电子工业部标准化研究所归口。

电子级水检测指标：

1、电阻率的测定

2、全硅的测定

3、微粒数的测定:0.05μm-0.1μm、0.1μm-0.2μm、0.2μm-0.3μm、0.3μm-0.5μm、＞0.5μm

4、水中痕量金属检测项目：铜、锌、镍、钠、钾、铁、铅、氟、氯

5、细菌个数的测定

6、痕量阴离子检测项目：亚硝酸根离子、硝酸根离子、硫酸根离子、磷酸根离子

7、总有机碳得测定

8、溴含量测定

电子级水检测、高纯水检测、电子工业清洗用水检测，这些适用于GB/T 11446系列标准。当然除了电子工业，半导体工业，在微电子工业、发电工业、制药行业以及实验室等众多领域的清洗用水，也可以参考GB/T 11446检测。理论上高纯水的电阻率要求达到18.3MΩ.cm.很多时候抽检检测只需要检测电阻率、钠离子、全硅这三个指标即可。

超纯水之于微电子的重要性

在微电子行业生产制备中，超纯水主要用于清洗硅片，少量用于制备药液、硅氧化的水蒸气源、一些设备的冷却水、制备电镀液等。微电子行业生产中80%的工序都需要用高纯水来清洗硅片，水质的好坏与微电子产品的质量和生产量有很大关系。

Ø 水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜产生耐压；

Ø 重金属(Au、Ag、Cu等)会使PN结电压降低；

Ø III族元素(B、Al、Ga等)会使N型半导体特性变差，V族元素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性变差；

Ø 水中的细菌经过高温碳化后的磷（约占灰分的20-50%）会使P型硅片的局部区域变成N型硅片而导致器件性能变坏；

水中的微粒（包括细菌）如吸附在硅片表面，就会造成电路短路或特性变差