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半导体超纯水介绍 超纯水设备

发布时间: 2024/1/4 有效时间: 2024/7/4

详细介绍

半导体超纯水介绍

随着半导体工业的不断发展,对清洁水的电导率、离子含量、TOC、do和颗粒物的要求越来越严格。由于超纯水在许多指标上对半导体的要求很高,因此半导体行业的超纯水与其他行业的用水要求不同。半导体行业对超纯水有严格的水质要求。目前,半导体所用的超纯水需要达到的水质标准为:我国电子工业部电子级水质技术标准(18MQ.cm、15MO.cm、10MO.cm、2M.O.cm、0.5M.O.cm五级标准),我国电子工业部高纯水水质试行标准,国内外大规模集成电路水质标准等。

那么,如何产出高质量的半导体超纯水?

建议采用“两级RO+EDl+精混床除盐水处理工艺"这类的超纯水设备,可保证处理后的水电阻和电电阻达到18MO.cm以上。除了采用以上工艺外,结构设计也需要相对紧凑,这样一来占地面积小可为企业节省大量建设空间。这种半导体超纯水设备出厂前都是需进行压力测验的,所以出现故障概率小。还可以配备反渗透预脱盐技术,再次从根本上确保了水处理设备的出水质量。


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电子级水UV-TOC控制系统

半导体超纯水介绍产品规格:

处理水量

2~60m3/h

灯管配置

12~48支

灯管类型

85w/155w(185/254nm双波段)

石英套管

T>80%@185nm

镇流器

50~100%输出功率可调

反应器材质

316L

洁净等级

内外电解抛光、表面光洁度10以上(≤Ra0.2)

法兰尺寸

DN50~DN200

额定压力

PN10

控制柜等级

IP55,碳钢喷塑

控制系统

本地/远程、触摸屏、连接SCADA系统

UV强度传感器

分辨率0.01mw/cm2









集成电路超纯水应用领域:

1. 半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路板

2. 电解电容器生产铝箔及工作件的清洗

3. 电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液

4. 黑白显像管荧光屏的生产、波壳清洗、沉淀、洗膜、管颈清洗

5. 液晶显示器的生产、屏面清洗

6. 集成电路生产中高纯水清洗硅片

7. LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏的生产










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