半导体超纯水设备－北京安力斯环境科技股份有限公司

半导体超纯水设备在半导体生产中主要用于清洗硅片。少量水用于配制药剂、硅片氧化的蒸汽源、某些设备的冷却水、电镀溶液的配制。产品的质量与产量密切相关。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，重金属(Au、Ag、Cu等)会降低PN结的耐压力，III族元素 (B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化。细菌高温炭化水中的磷(约为灰分的20%~50%)会使p型硅片局部变为N型硅片，导致器件性能下降。水中的颗粒，包括细菌，如果附着在硅片表面，会导致短路或性能恶化。可见，超纯水在半导体行业的必要性。

　　随着半导体工业的不断发展，对清洁水的电导率、离子含量、TOC、do和颗粒物的要求越来越严格。由于超纯水在许多指标上对半导体的要求很高，因此半导体行业的超纯水与其他行业的用水要求不同。半导体行业对超纯水有严格的水质要求。目前，半导体所用的超纯水需要达到的水质标准为：我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)，我国电子工业部高纯水水质试行标准，国内外大规模集成电路水质标准等。

产品介绍：

Onyx的EX-UPW-TOC产品主要由高透185nm的紫外灯管，高输出石英套管，内外电解抛光的一体化紫外反应器，高度精确的UV强度传感器及智能自控系统组成。

185nmUV主要用于生产超纯水过程中去除TOC有机物，降低TOC出水指标，使出水满足美国ASTM超纯水水质标准及电子工业部电子级水水质标准。

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电子级水UV-TOC控制系统

半导体超纯水设备产品规格：

处理水量	2~60m3/h
灯管配置	12~48支
灯管类型	85w/155w(185/254nm双波段)
石英套管	T＞80%@185nm
镇流器	50~100%输出功率可调
反应器材质	316L
洁净等级	内外电解抛光、表面光洁度10以上（≤Ra0.2）
法兰尺寸	DN50~DN200
额定压力	PN10
控制柜等级	IP55，碳钢喷塑
控制系统	本地/远程、触摸屏、连接SCADA系统
UV强度传感器	分辨率0.01mw/cm2

集成电路超纯水应用领域：

1. 半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路板

2. 电解电容器生产铝箔及工作件的清洗

3. 电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液

4. 黑白显像管荧光屏的生产、波壳清洗、沉淀、洗膜、管颈清洗

5. 液晶显示器的生产、屏面清洗

6. 集成电路生产中高纯水清洗硅片

7. LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏的生产

半导体超纯水设备

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