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Hot News半导体超纯水设备在半导体生产中主要用于清洗硅片。少量水用于配制药剂、硅片氧化的蒸汽源、某些设备的冷却水、电镀溶液的配制。产品的质量与产量密切相关。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良,重金属(Au、Ag、Cu等)会降低PN结的耐压力,III族元素 (B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化,V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化。细菌高温炭化水中的磷(约为灰分的20%~50%)会使p型硅片局部变为N型硅片,导致器件性能下降。水中的颗粒,包括细菌,如果附着在硅片表面,会导致短路或性能恶化。可见,超纯水在半导体行业的必要性。
产品介绍:
Onyx的EX-UPW-TOC产品主要由高透185nm的紫外灯管,高输出石英套管,内外电解抛光的一体化紫外反应器,高度精确的UV强度传感器及智能自控系统组成。
185nmUV主要用于生产超纯水过程中去除TOC有机物,降低TOC出水指标,使出水满足美国ASTM超纯水水质标准及电子工业部电子级水水质标准。
电子级水UV-TOC控制系统
半导体超纯水设备产品规格:
处理水量 | 2~60m3/h |
灯管配置 | 12~48支 |
灯管类型 | 85w/155w(185/254nm双波段) |
石英套管 | T>80%@185nm |
镇流器 | 50~100%输出功率可调 |
反应器材质 | 316L |
洁净等级 | 内外电解抛光、表面光洁度10以上(≤Ra0.2) |
法兰尺寸 | DN50~DN200 |
额定压力 | PN10 |
控制柜等级 | IP55,碳钢喷塑 |
控制系统 | 本地/远程、触摸屏、连接SCADA系统 |
UV强度传感器 | 分辨率0.01mw/cm2 |
集成电路超纯水应用领域:
1. 半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路板
2. 电解电容器生产铝箔及工作件的清洗
3. 电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液
4. 黑白显像管荧光屏的生产、波壳清洗、沉淀、洗膜、管颈清洗
5. 液晶显示器的生产、屏面清洗
6. 集成电路生产中高纯水清洗硅片
7. LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏的生产