半导体超纯水说明

半导体超纯水说明主要用于生产超纯水过程中去除TOC有机物，降低TOC出水指标，使出水满足美国ASTM超纯水水质标准及电子工业部电子级水水质标准。

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光化学高级氧化

光化学高级氧化，光化学已经深入了各领域的高级氧化应用，包括电子行业超纯水TOC降解，自来水中微污染有机物去除，污水处理厂提标改造及深度处理，高难有机废水预处理等。其中过臭氧光催化氧化技术更多应用于污水处理厂预处理及深度处理；而光芬顿技术因反映效率高（均相反应）、反应条件温和（常温常压），应用范围广（COD适用范围广），在各行业高难有机废水处理中有着广阔的应用前景。$n$n​

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光化学工业水处理

光化学工业水处理应用于医药、农药、化工等行业去除生物毒性，提高废水的可生化性。高含盐废水的TOC/COD去除，降低蒸发设备故障率，提高产盐的资源回收率。

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光化学水处理

光化学高级氧化,光化学水处理：光化学是研究物质吸收光子后，分子层面发生的化学变化，包括电子、原子、分子在基态和激发态的转变，理化性质变化及其引发的链反应。安力斯光化学工业水处理技术是研究水处理净化过程中，有机物或无机物目标分子在100-700nm光子的激发下所发生的化学反应。

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光催化高级氧化介绍

光催化高级氧化介绍技术原理：在紫外线激发下H2O2可产生具有很强氧化性的羟基自由基，可将有机污染物最终矿化为CO和H2O，其中间产物具有较多含氧官能团， 有效提高了废水的可生化性。

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紫外线消毒器设备

紫外线消毒器设备占地面积小，系统结构紧凑，潜在风险小，确保操作人员安全。系统的安装十分简便，不会对工厂的正常生产造成干扰，所需要的维护工作简便，相比于其他的饮用水深度处理工艺有着显著的优势

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半导体超纯水设备

半导体超纯水设备主要用于生产超纯水过程中去除TOC有机物，降低TOC出水指标，使出水满足美国ASTM超纯水水质标准及电子工业部电子级水水质标准。

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北京中压紫外线杀菌

北京中压紫外线杀菌是在紫外反应器中加入过氧化氢经紫外光照射生成较高浓度的羟基自由基，可以用于溴味化合物的去除。对所有的细菌和病毒都能高效杀灭

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北京锅炉补水

在北京锅炉补水的软化或除盐过程中会用到离子交换或反渗透脱盐设备。而水处理车间的生水（未处理的天然水）中带有大量细菌和微量有机物，容易造成设备生物滋生和淤泥污堵，从而降低离子交换树脂的交换容量和增加反渗透的透过压力。

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UV超纯水设备

UV超纯水设备指电阻率达到18 MΩ*cm（25℃）的水。这种水中除了水分子外，几乎没有什么杂质，更没有细菌、病毒、含氯二噁英等有机物，当然也没有人体所需的矿物质微量元素，也就是几乎去除氧和氢以外所有原子的水。

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TOC超纯水

TOC超纯水指需电子行业用水，其水中要去除细菌、泥沙、胶体、悬浮物、金属这些导电杂质。其电阻率≥18MΩ/cm（25℃，EW-I）。

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UV冷却水介绍

UV冷却水介绍是指用于做冷却介质的水，在电厂中主要指在凝汽器中用于冷却汽轮机排汽的水。

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二次供水紫外消毒设备

二次供水紫外消毒设备具有良好的杀菌效果，由于他不改变水的物理、化学性质，所以在饮用水、食品、饮料、化工、电子、医药、生活水箱、中水是*的理想消毒设备

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UV光催化高级氧化

UV光催化高级氧化技术原理：在紫外线激发下H2O2可产生具有很强氧化性的羟基自由基，可将有机污染物最终矿化为CO和H2O，其中间产物具有较多含氧官能团， 有效提高了废水的可生化性。

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UV系列紫外线消毒器

UV系列紫外线消毒器占地面积小，系统结构紧凑，潜在风险小，确保操作人员安全。系统的安装十分简便，不会对工厂的正常生产造成干扰，所需要的维护工作简便，相比于其他的饮用水深度处理工艺有着显著的优势

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